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      有關濺射鍍膜機的技術特點

      2018-08-23  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1066

        有關濺射鍍膜機的技術特點

        對于我們的濺射鍍膜機,我們要提高濺射鍍膜的速率,關鍵是提高靶材的濺射率,這就必須提高等離子體的電離度,即在相同的放電功率下,獲得更多的離子,從離子轟擊靶面的濺射產物看,除了擊出原子或分子外,還擊出二次電子,這些電子被電場加速后與氣體原子或分子發生碰撞又引起氣體電離。

        其充分利用二次電子的能量是提高等離子體電離度的有效途徑,射頻濺射是采用頻率為13.56MHZ的高頻交變電場使氣體放電產生等離子體。對于絕緣靶材射頻濺射最具優勢。濺射鍍膜機是利用熱絲弧光放電增強輝光放電產生等離子體,但三極濺射難以實現大面積均勻鍍膜,工業上未獲得廣泛應用。

        濺射鍍膜機技術是用離子轟擊靶材表面,把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。目前人們開發出了濺射速率較高的射頻濺射、三極濺射和磁控濺射技術。

      關鍵詞: 濺射鍍膜機           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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