<tt id="rjlsm"></tt>
    <video id="rjlsm"></video>
    <rp id="rjlsm"></rp>
      <tt id="rjlsm"><tbody id="rjlsm"></tbody></tt><rt id="rjlsm"><menuitem id="rjlsm"></menuitem></rt>

      <source id="rjlsm"></source>

      pvd真空電鍍膜工藝的原理及應用

      2018-12-03  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1051


        pvd真空電鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比,真空鍍膜有很多優點:如對環境無污 染,是綠色環保工藝;對操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強,膜厚均勻。真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有:蒸發鍍膜(包括電弧蒸發、電子槍蒸發、電阻絲蒸發等技術)、濺射鍍膜(包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術),這些方法統稱物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition), 簡稱為PVD。

        與之對應的化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition)簡稱為CVD技術。行業內通常所說的“IP”(ion plating)離子鍍膜,是因為在pvd技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用,為了強調離子的作 用,而統稱為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發鍍膜 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之一。

      關鍵詞: pvd真空電鍍           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


      CopyRight ? 版權所有: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 技術支持:誠一網絡 網站地圖 XML 備案號:粵ICP備18060884號-1


      掃一掃訪問移動端
      黄色无码高清,中文三级片一区二区,92国产精品午夜福利免费,日韩精品一区二区三区电影在线
      <tt id="rjlsm"></tt>
      <video id="rjlsm"></video>
      <rp id="rjlsm"></rp>
        <tt id="rjlsm"><tbody id="rjlsm"></tbody></tt><rt id="rjlsm"><menuitem id="rjlsm"></menuitem></rt>

        <source id="rjlsm"></source>