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      pvd真空電鍍淺析PVD技術的發展與應用

      2019-03-29  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1136

       

        隨著PVD技術應用的迅速推廣,吸引了國內外專家們和相關企業積極研發,至今無論是PVD沉積技術、PVD的制備工藝,還是PVD設備配套裝備與部件,都有了長足的進步。

        1. 冷陰極電弧

        陰極電弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態,從而實現薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發源有新的發展,主要是通過有效強制冷卻和電磁場獨特的設計,在兩者共同作用下,使靶材的離化率更高,薄膜性能更加優異。

        2. 磁過濾陰極弧

        配以高效的電磁過濾系統,將電弧產生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團等大顆粒過濾干凈,經磁過濾后沉積粒子的離化率, 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與基體的結合力更強。

        3. 柱狀或平面狀大面積電弧源

        保證高離化率的同時,減少大顆粒沉積的比例,達到既有好的附著力,又有較好的表面光潔度效果。

        4. 中頻磁控濺射

        增加離化率,減少電荷積累引起的異常放電,預防靶表面中毒現象,沉積工藝更穩定。

        5. 全封閉非平衡磁控濺射

        通過全封閉非平衡電磁場的作用,提高真空室內的離化率以及沉積速率,增強膜基結合力和薄膜沉積的均勻性。

        6. 脈沖高能窄峰直流濺射

        提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%),接近電弧的離化率。通過電磁場的作用可以大大增加沉積離子的能量,從而改善膜層的結合力和致密性。

        7. 陽極層離子源輔助沉積

        提高轟擊清洗的質量,特別是可以實現對非導體的鍍前清洗,鍍膜時輔助沉積,提高沉積粒子的能量,改善膜層的結合力。

        8. 納米復合多層膜

        納米沉積技術,是涂層結構未來的發展方向,通過納米級厚度的不同成份沉積層復合結構膜,實現涂層性能的增強。

        9. 裝飾性雙色間鍍

        單一的顏色PVD涂層已滿足不了市場的需求,進而提出雙色間鍍的要求,這是裝飾涂層的發展方向,雙色間鍍的質量成為代表PVD加工企業的生產技術水平標志。

        10. 高能脈沖疊加直流偏壓

        減少工件的打火,增加沉積離子能量,增強膜基結合力,提高沉積速率。

        11. 超低溫捕集泵

        通過低溫冷凝效應,迅速捕集真空系統內的殘余氣體,特別是水蒸汽,大大縮短抽真空的時間,獲得潔凈的真空環境。

        12. 分子泵及深冷泵

        綠色環保,大大降低能耗,真空系統抽速穩定,鍍膜工藝穩定可靠,重現性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體,保證真空系統的潔凈度。


      關鍵詞: pvd真空電鍍           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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