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      真空鍍膜設備主要分類有兩個大種類

      2019-05-22  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:704

        真空鍍膜設備主要分類有兩個大種類:

        真空鍍膜設備蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等

        一、對于蒸發鍍膜:

        一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。

        厚度均勻性主要取決于:

        1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

        2、基片表面溫度

        3、蒸發功率,速率

        4、真空度

        5、鍍膜時間,厚度大小。

        組分均勻性:

        蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

        晶向均勻性:

        1、晶格匹配度

        2、基片溫度

        3、蒸發速率

        二、.對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。

        濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。

        濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld

        為例,因素主要有:靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。對于不同的濺射材料和基片

        參數需要實驗確定,是各不相同的,鍍膜設備的好壞主要在于能否精確控溫,能否保證好的真空度,能否保證好的真空腔清潔度


      關鍵詞: 真空鍍膜設備           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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