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      磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

      2020-09-03  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:656


        下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

        主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

        現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.

        直流濺射發展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.

        而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材中毒等現象.

        而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

      關鍵詞: 磁控鍍膜機           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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