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      蒸發鍍膜機的性能

      2017-09-26  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:940

      通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。

        蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發式鍍膜機常用蒸發源是用來加熱膜材使之汽化蒸發的裝置。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所,直徑一般為400~700mm,高400~800mm,用不銹鋼制作,有水冷卻裝置。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發系統包括蒸發源和加熱蒸發源的電氣設備。

      關鍵詞: 蒸發鍍膜機           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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