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      蒸發鍍膜機?廠家講解化合物的蒸鍍

      2017-10-25  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1040

        蒸發鍍膜機廠家講解化合物的蒸鍍

        化合物的蒸鍍方法有3種:直接蒸鍍法、反應蒸鍍法和雙蒸發源蒸鍍法。

        在使用直接蒸鍍法時,化合物可能發生如下變化:化合物的組成不發生變化r可以直接沉積得到化合物薄膜;加熱時,化合物分解形成含有多種氣相成分的蒸氣,沉積時得到的是某些氣相成分的薄膜;化合物加熱時分解,得不到薄膜,前兩種情況均可以制取化合物薄膜,但是在應用時,應注意加熱溫度條件,因為某些情況下,加熱溫度不同,各種氣相成分的組成不同,獲得的薄膜也就不同。

        反應蒸鍍法是在充滿活性氣體的條件下,蒸發固體材料,使之在基片上進行反應獲得化合物薄膜的方法。這種方法凈常用于鍍制高熔點化合物薄膜。

      關鍵詞: 蒸發鍍膜機           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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