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      濺射鍍膜機設備特點

      2017-12-28  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1105

        連續式磁控濺射鍍膜機主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計,提供全套鍍膜設備,負責工藝,按交“鑰匙”工程服務。

        設備特點:

        1.設備采用真空磁控濺射技術,孿生陰極,中頻濺射技術,并配以先進的控制系統 。

        2.生產過程全部自動,連續進行。被鍍工件加熱溫度最高可達350℃,溫度分區控制可調。

        3.真空室材料采用SUS304,真空室內壁進行拋光處理,外壁采用拋光后噴漆處理。

        4.真空室之間采用獨立門閥隔開,我們設計的是插板閥,可以有效隔斷,穩定工藝氣體。傳動采用磁導向,保障傳動的穩定性。整條生產線的各段速度采用變頻調速電機驅動,運行速度可調節。

        5.電氣控制系統:觸摸屏與PLC自動控制,人機對話方式來實現系統的數據顯示、操作與控制。


      關鍵詞: 濺射鍍膜機           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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